wien2k怎么计算 费米计算面处的态密度

固体物理基础参考解答_百度文库
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固体物理基础参考解答
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【求助】VASP计算电子态密度
最近做点测试计算
可是DOS做出来效果很差
同时附上自己的INCAR
希望高手帮忙,如何做出漂亮的DOS图
并指出那些参数对DOS图有影响
&&ENCUT&&= 300 eV
& &ISTART = 0
& &ISPIN&&= 2
& &ISYM& &= 0
& &GGA& & = 91
& &VOSKOWN = 1
& &ISIF& &= 0
& &NELM& &= 100
& &ALGO& &= FAST
& &EDIFF&&= 1E-4
& &EDIFFG = 0.001
& &LREAL&&= .FALSE.
& &NSW& & = 0
& &IBRION = -1
& &ISMEAR = -5
& &SIGMA&&= 0.1
& &NWRITE = 2
& &NKPR& &= 1
1)增加k点网格的大小;
2)采用ISMEAR=0, SIGMA = 0.1~0.2。 Originally posted by zzy870720z at
最近做点测试计算
可是DOS做出来效果很差
同时附上自己的INCAR
希望高手帮忙,如何做出漂亮的DOS图
并指出那些参数对DOS图有 ... 换用ISMEAR =-5 ,作图时,还有一个参数是可调的,就是DOS 里的展宽,很明显,你做的图不合理,因为展宽明显取得过小。 Originally posted by valenhou001 at
1)增加k点网格的大小;
2)采用ISMEAR=0, SIGMA = 0.1~0.2。 感谢侯老师指导,不过VASP手册上说计算态密度推荐采用四面体方法?
用Gaussian smearing方法好吗? Originally posted by vasp001 at
换用ISMEAR =-5 ,作图时,还有一个参数是可调的,就是DOS 里的展宽,很明显,你做的图不合理,因为展宽明显取得过小。 首先谢谢你的解释
能说更详细些吗?作图时有什么要注意的?
麻烦了,很急 采用ISMEAR=-5时,需要将k-mesh增加的很大,出来的态密度才会光滑。
如果你想用适中的k-mesh,用ismear=0, SIGMA = 0.1~0.2也是可以接受的。这样弄出来的态密度,经过了Gussian展宽。
再要不然你用ISMEAR=-5计算出来的态密度,自己编个程序采用Guassian函数去展宽计算出来的态密度。 用VASP计算态密度需要执行两个步骤:
1、做静态计算
2.、将静态计算得出的CHGCAR文件,再加上(1)中的INCAR, KPOINTS, POSCAR和POTCAR一起作为输入文件。注意此时的INCAR中的ICHARG设为11。
增加DOS的平滑度可以增大NEDOS(约2000)来实现
你的问题是不是只做了第一步静态计算,然后利用静态计算的结果计算了态密度呢? Originally posted by valenhou001 at
采用ISMEAR=-5时,需要将k-mesh增加的很大,出来的态密度才会光滑。
如果你想用适中的k-mesh,用ismear=0, SIGMA = 0.1~0.2也是可以接受的。这样弄出来的态密度,经过了Gussian展宽。
再要不然你用ISMEAR=- ... 侯老师可以多提示一点吗?
没弄过gaussian展宽的东西?
有没有资料?谢谢 Originally posted by valenhou001 at
采用ISMEAR=-5时,需要将k-mesh增加的很大,出来的态密度才会光滑。
如果你想用适中的k-mesh,用ismear=0, SIGMA = 0.1~0.2也是可以接受的。这样弄出来的态密度,经过了Gussian展宽。
再要不然你用ISMEAR=- ... 请问如果采用了ISMEAR=0 SIGMA = 0.1~0.2的话,在态密度图上看到的能隙大小还准确吗?态密度图上看能隙是不是直接看费米能级附近态密度为0的两个点横坐标之间的差值呢? 一般不从态密度上看能隙值,因为展宽的原因会使得价带顶和导带底的位置变得不准了。一般从计算的能带结构图上来看。 Originally posted by valenhou001 at
一般不从态密度上看能隙值,因为展宽的原因会使得价带顶和导带底的位置变得不准了。一般从计算的能带结构图上来看。 侯老师有空指导一下怎么做gaussian展宽?还有就是怎么gaussian处理后对DOS有没有影响? Originally posted by zzy870720z at
首先谢谢你的解释
能说更详细些吗?作图时有什么要注意的?
麻烦了,很急 展宽,是在你处理数据的脚本中来约定的,具体的细节你要看你的脚本,一般来说这个参数比约定SIGMA 对态密度的影响更大。如果展宽取得大一些的话,峰行不会那么尖锐,并且,态会相对弥散一些,我觉着这样才更符合实际。
另外,不要从态密度图获得带隙,应该从原始数据里找HOMO 和LUMO ,直接相减,就能获得相应的带隙。 下面的资料是从The FHIMD Toolkit User's Manual上拷贝下来的:
http://www.fhi-berlin.mpg.de/th/fhi98md/
见里面的公式3.2
1、先用vasp计算态密度,比如采用ISMEAR=-5,同时将NEDOS设置的大一些,默认值为301,将它调大,比如设置为1000左右;
2、得到了DOSCAR文件之后,取出total DOS. 可以简单的认为,在采用ISMEAR=-5时计算态密度,上面公式3.1中的F就是delta函数。
3、按上面公式3.1, 3.2,对计算出来的态密度做一个展宽,这个要自己编程:
公式3.1中的权重都为1.0了,不对k进行循环,只是对能量点的个数, 公式3.1里面|...|内含的量已经由vasp计算出来了的。 Originally posted by vasp001 at
展宽,是在你处理数据的脚本中来约定的,具体的细节你要看你的脚本,一般来说这个参数比约定SIGMA 对态密度的影响更大。如果展宽取得大一些的话,峰行不会那么尖锐,并且,态会相对弥散一些,我觉着这样才更符 ... 展宽不就是SIGMA吗?在INCAR中不是已经给出来了?为什么会有""在处理数据的脚本中来约定"这一说呢?
搜索到下面这一段话:"当体系的电子结构在Fermi 能级附近出现多个简并能级时,体系的自洽过程会相当慢,甚至不能收敛。这是由于能级简并,或能级之间相差不大,导致电子“不知道”应该在哪里分布,从而不断地在几个能级之间“跳来跳去”,但无论电子分布在哪个前线能级上整个体系都不能自洽。
所谓拖尾,是指在前线轨道上,电子可以以分数分布,而不再要求一定要以整数分布,从而使电子可以一分为多地分布在能量相近的各个前线轨道,而不需要在各轨道之间“跳来跳去”,使体系更容易自洽。使用该办法时要对拖尾效应设定一个能量值,使电子在能量相差在该值之内的轨道进行分数分布。设定值越小,计算结果越精确,但亦更难自洽。(也叫展宽)" Originally posted by cenwanglai at
展宽不就是SIGMA吗?在INCAR中不是已经给出来了?为什么会有""在处理数据的脚本中来约定"这一说呢?
搜索到下面这一段话:"当体系的电子结构在Fermi 能级附近出现多个简并能级时,体系的 ... 真正作图时,还有一个展宽,来限制的,我用过处理态密度的两个脚本,都是有展宽的。不信你可以看一下你处理的脚本。 Originally posted by vasp001 at
真正作图时,还有一个展宽,来限制的,我用过处理态密度的两个脚本,都是有展宽的。不信你可以看一下你处理的脚本。 请问一下,要计算单个分子的态密度(在10埃的立方盒子中),非自洽计算时K点怎么设呢,也是要设好大吗?还有就是对于Slab模型,非自洽计算Z方向是不是为1就可以呢?先谢谢了。 K点有经验取法&&number of KPOINTS =40/a or 40/b ,40/c ,
我感觉你问的是非周期方向的K 点如何设,应该设为1 ,原因见FT. 你好,想请问下,关于不要从态密度图获得带隙,应该从原始数据里找HOMO 和LUMO ,直接相减,就能获得相应的带隙,是不是指GAMM点的LOMO和LUMO呢?谢谢Originally posted by vasp001 at
展宽,是在你处理数据的脚本中来约定的,具体的细节你要看你的脚本,一般来说这个参数比约定SIGMA 对态密度的影响更大。如果展宽取得大一些的话,峰行不会那么尖锐,并且,态会相对弥散一些,我觉着这样才更符 ...
Originally posted by 含草 at
你好,想请问下,关于不要从态密度图获得带隙,应该从原始数据里找HOMO 和LUMO ,直接相减,就能获得相应的带隙,是不是指GAMM点的LOMO和LUMO呢?谢谢
不一定,因为,直接带隙半导体,HOMO 和LUMO 经常在GAMMA 点,而间接带隙半导体,不是这样,一般是有一个,或者两个都不在GAMMA 点,这是由体系性质决定的。 Originally posted by vasp001 at
K点有经验取法&&number of KPOINTS =40/a or 40/b ,40/c ,
我感觉你问的是非周期方向的K 点如何设,应该设为1 ,原因见FT. 谢谢你的回答!
& &还请问一下,为什么计算态密度时,第二步非自洽计算K点要选得多一点呢?能不能推荐点东西给我看看。
&&我对单个平面分子(10埃立方晶胞)第一我用的K点是2*2*1,计算态密度时非自洽用的K点还是2*2*1,不知道这样算出来好不好?
&&先谢谢了,还请指点!!&& 查看话题
【求助】MS计算费米能级位置的疑问
有没有人计算过费米能级的位置呢?尽管费米能级被软件移动到价带顶,0ev处。根据计算结果文件,可还原能带的原始位置,然后把费米能级位置也填充进去。
我计算了软件自带的材料发现费米能级位置居然不在带隙正中间,或者偏向导带或者偏向价带。
费米能级不在带隙中间很正常的,有时还会进入导价或价带中。 Originally posted by lbambool at
费米能级不在带隙中间很正常的,有时还会进入导价或价带中。 这是什么原因呢,按照我所想的,费米能级应该在带隙正中,记得以前学半导体物理时,掺杂才会导致费米能级从正中移向导带或价带 同问,如何根据MS结果确定费米能级的真实位置,并且求出氧化还原电势? 从费米能级和导带的相对位置判断一些性质,如:费米能级移入导带,使整体的导电性能增强 Originally posted by dgcrcat at
从费米能级和导带的相对位置判断一些性质,如:费米能级移入导带,使整体的导电性能增强 可是费米能级不是被软件移动到了0ev处,也就是价带顶。也就是说,从图上看到的费米能级就是0ev,被固定了的。 Originally posted by astrolia at
可是费米能级不是被软件移动到了0ev处,也就是价带顶。也就是说,从图上看到的费米能级就是0ev,被固定了的。 嗯,我觉得是这样的,是导带和价带在相对费米能级移动,也可以看成是导带价带不动,费米能级移动,我看到文献上,费米能级都在0处 计算得到的费米能级都是处于绝对零度的基态下的,所以纯半导体或绝缘体应该在价带顶,而不是像通常实验得到的室温下的在禁带中央
不知道ms有没有功能算激发态室温下的费米能级。。。。 费米能级到底在那啊?怎么根据MS找出来啊, Originally posted by dgcrcat at
从费米能级和导带的相对位置判断一些性质,如:费米能级移入导带,使整体的导电性能增强 怎么确定移入没有?怎么确定费米能级位置啊, Originally posted by bashen1 at
计算得到的费米能级都是处于绝对零度的基态下的,所以纯半导体或绝缘体应该在价带顶,而不是像通常实验得到的室温下的在禁带中央
不知道ms有没有功能算激发态室温下的费米能级。。。。 可是计算的纯材料的费米能级也不完全在价带顶的位置……或者我们分析时,不管费米能级具体位置,只看它的相对变化??? Originally posted by bashen1 at
计算得到的费米能级都是处于绝对零度的基态下的,所以纯半导体或绝缘体应该在价带顶,而不是像通常实验得到的室温下的在禁带中央
不知道ms有没有功能算激发态室温下的费米能级。。。。 如果计算理想晶体的费米能级靠近导带底,而加入杂质或者缺陷后,费米能级的位置很靠近价带顶,是否可以说明一些情况?感觉MS 软件搞得我很不确定费米能级在分析问题时的可靠性。谢谢指教! Originally posted by astrolia at
如果计算理想晶体的费米能级靠近导带底,而加入杂质或者缺陷后,费米能级的位置很靠近价带顶,是否可以说明一些情况?感觉MS 软件搞得我很不确定费米能级在分析问题时的可靠性。谢谢指教! 是啊,有时对可靠性是很无奈,但是简单体系还是比较稳定的,基本不受计算参数影响 费米能级最先来源于金属。也就是正常的定义,最高填充的能级。但半导体中的费米能级是改进了的说法,你可以看一看黄昆先生的半导体物理,在半导体中的费米能级是同时来表征两种载流子的填充水平量,所以在本征时放于带隙中间。 Originally posted by limaojlu at
费米能级最先来源于金属。也就是正常的定义,最高填充的能级。但半导体中的费米能级是改进了的说法,你可以看一看黄昆先生的半导体物理,在半导体中的费米能级是同时来表征两种载流子的填充水平量,所以在本征时放 ... 嗯,但是MS算出的不在中间,我不知道该怎么去看待MS计算半导体时费米能级的高低变化 MS 就是最高的填充态啊。和真正的半导体费米能级不一样 据说MS5.0以后的版本计算费米能级和4.4完全不同,可以试一下4.4的版本是什么结果,5.5计算很多半导体的费米能级都进入了价带,4.4中是在禁带中的。 Originally posted by lbambool at
据说MS5.0以后的版本计算费米能级和4.4完全不同,可以试一下4.4的版本是什么结果,5.5计算很多半导体的费米能级都进入了价带,4.4中是在禁带中的。 十分谢谢提示! 上传我的文档
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