在电子工程世界为您找到如下关于“光刻机”的新闻
中兴通讯受美国政府制裁一案，为大陆高端芯片的自主拉起警报，大陆自官方到民间无不立刻加大芯片研发的投资力度。日前有消息指，长江存储与中芯国际在近日突破海外封锁，先后从荷兰艾司摩尔(ASML)公司订购了两台总值近两亿美元的高端光刻机。光刻机又称曝光机，是芯片制程最关键步骤“光刻”的核心机器。ASML则是全球高端光刻机的霸主，在该领域拥有全球90%的市占率。每日经济新闻网报导...
重要的光刻机，2010年最新的是32nm制程工艺光刻机，全世界所有先进的半导体厂商都能买到，但中国厂商很难买到。中芯国际到2015年才通过和比利时微电子研究中心合作，得到了32nm的光刻机。而在2015年，芯片工艺制程已经相隔好几代，台积电、Intel、三星等全球领先的芯片制造商都已经买到10nm光刻机。　　因此，解决芯片被掣肘的现状，不是一家企业的任务、也绝不是一家企业之力...
　　中芯国际花了1.2亿美元从荷兰ASML(阿斯麦)买来一台EUV极紫外光刻机，未来可用于生产7nm工艺芯片，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，同样来自ASML，不过是193nm沉浸式，用于产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆，7200万美元一台。下面就随嵌入式小编一起来了解一下相关内容吧。　　据集微网报道， 5月21日上午，在上海浦东新区康桥工业园南区，华虹集团...
　　长江存储的首台光刻机已于今天中午运抵武汉天河机场，设备相关的海关、商检及边防口岸的相关手续办理完成后，即可运至长江存储的工厂。据集微网独家消息，这台光刻机为ASML的193nm浸润式光刻机，售价7200万美元，用于14nm~20nm工艺。这也从侧面透露了长江存储3D NAND闪存芯片的工艺制程。这是长江存储的第一台光刻机，陆续还会有多台运抵。下面就随嵌入式小编一起来了...
依旧保留着在诸多核心领域的统治力。以生产设备为例，全球三大巨头应用材料、泛林和ASML，美国独占前两席，而且应用材料在除光刻机以外的几乎所有领域都领先，包括蚀刻、薄膜沉积等。更恐怖的是，全球三大EDA软件（用于芯片设计）巨头铿腾、明导和新思，均为美国企业，全世界几乎所有芯片设计和制造企业都离不开它们。高端芯片方面，中兴事件暴露出来的众多短板，包括ADC/DAC（数模转换...
攻克的核心技术”专栏，就此进行梳理、解读和评析。　　指甲盖大小的芯片，密布千万电线，纹丝不乱，需要极端精准的照相机——光刻机。光刻机精度，决定了芯片的上限。高精度光刻机产自ASML、尼康和佳能三家;顶级光刻机由ASML垄断。　　“十二五”科技成就展览上，上海微电子装备公司(SMEE)生产的中国最好的光刻机，与中国的大飞机、登月车并列。它的加工精度是90纳米，相当于2004年上市...
;有网友说：全球就只有他家能生产的出来，没有人做的出来。而且还不卖给中国。中国出多少钱都不卖。毛利1000%都可以。这个是在芯片里面画电路的，都是几纳米，大概是头发丝的万分之一大小电路，你说牛B不。&到底是什么光刻设备这么牛，为什么又不能卖给中国呢？&什么是光刻机？对于普通人来说，光刻机或许是一个陌生的名词，但它却是制造大规模集成电路的核心装备，每颗芯片诞生之初...
　　今天要讲的是一家比较低调的公司，不是从事半导体行业的同学，可能还不太了解这家公司，但在半导体领域却是“天下无人不识君”的地位，它就是总部位于荷兰的ASML半导体制造设备提供商。下面就随半导体小编一起来了解一下相关内容吧。半导体厂商无不识君 聊一聊隐形大佬ASML　　这家公司的主要的业务不是制造半导体，而是生产用于制造半导体产品的设备——光刻机。ASML光刻机设备的透视图...
根据 《路透社》 的报导，日本光学大厂尼康 （Nikon）于24日表示，已对荷兰半导体设备大厂艾司摩尔 （ASML Holding NV） 和合作伙伴卡尔蔡司 （Carl Zeiss AG） 提起法律诉讼，并表示 ASML 及 Carl Zeiss 两家公司在未经 Nikon 的许可下将其微影 （lithography） 技术专利用于光刻机上，并运用在半导体制造业中。报导...
就&ASML&光刻系统的特定模块或半导体行业相关产品进行采购的可能性。此次MoU的签署代表 ASML 继日前与上海集成电路研发中心(ICRD)宣布合作之后，进一步深入参与中国的IC产业的发展。　　光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，制造光刻机更被比作是在微观世界里“造房子”——成像系统由几十个直径为200~300毫米的透镜组成，定位精度都是纳米级。微米级的瞬时...
光刻机资料下载
& 微细图形加工技术是集成电路向高集成化发展的关键, 其中图形曝光对准是很主要的。由于接触式光刻机的精度高、设备造价低, 所以在集成电路制造中被广泛采用。但是, 随着大规模集成电路不断向高集成化、微细化发展又出现了各种问题。...
还是光刻机的内部算法，激光器的控制,使用积分加滤波...
光刻机的技术原理和技术发展趋势...
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热门资源推荐价值 1.06 亿元，光刻机到底有啥用？-ZAKER新闻
雷锋网按：本文作者铁流，雷锋网首发文章，未经授权请勿转载。不久前，一台价值 1.06 亿元的设备经空运从荷兰飞抵厦门，由于该设备价值高，而且对保存和运输有着很高的要求——必须保持在 23 ℃恒温状态下。为了避免影响设备的精度，在运输中也对稳定性有极高的要求。因此，机场海关以机坪查验的方式对该货物实行全程机边监管，待货物装入特制温控气垫车，移至海关的机坪视频监控探头之下，完成紧急查验后当晚就得到放行。那么到底是什么设备能获得机场海关如此严阵以待，而且能有单台破亿的价格呢？什么是光刻机？光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于 LED 制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。在高端光刻机上，除了龙头老大 ASML，尼康和佳能也曾做过光刻机，而且尼康还曾经得到过 Intel 的订单。但是近些年，尼康在 ASML 面前被打的毫无还手之力，高端光刻机市场基本被 ASML 占据——即便是尼康最新的 Ar-F immersion 630 卖价还不到 ASML Ar-F immersion 1980D 平均售价的一半，也无法挽回败局。原因何在？一方面是 Intel 新 CEO 上台后，不再延续与尼康的 620D 合同，这使得尼康失去了一个大客户。另一方面，也和尼康自身技术实力不足有关，尼康的光刻机相对于 ASML 有不少瑕疵，在操作系统上设计的架构有缺陷，而且尼康的光刻机的实际性能和尼康官方宣传的有不小差距，这使得台积电、Intel、三星、格罗方德等晶圆大厂不可能为了省一点钱去卖有瑕疵的产品。目前，尼康的高端光刻机基本被 ASML 吊打，主流半导体产线中只有少数低阶老机龄的光刻机还是尼康或者佳能，其他基本都是 ASML 的天下。某种程度上，尼康的光刻机也只能用卖的超级便宜来抢市场了。那么，卖的到底有多便宜呢？用数据来说话，ASML 的 EUV NXE 3350B 单价超过 1 亿美元，ArF Immersion 售价大约在 7000 万美元左右。相比之下，尼康光刻机的单价只相当于 ASML 价格的三分之一。光刻机工作原理上图是一张 ASML 光刻机介绍图。下面，简单介绍一下图中各设备的作用。测量台、曝光台：是承载硅片的工作台。激光器：也就是光源，光刻机核心设备之一。光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。遮光器：在不需要曝光的时候，阻止光束照射到硅片。能量探测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是 nm 级的。物镜：物镜用来补偿光学误差，并将线路图等比例缩小。硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。题外话，由于硅片是圆的，所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系，根据缺口的形状不同分为两种，分别叫 flat、 notch。内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。高端光刻机完全依赖进口目前，光刻机领域的龙头老大是荷兰 ASML，并已经占据了高达 80% 的市场份额，垄断了高端光刻机市场。日本尼康在高端光刻机上完全被 ASML 击败，即便尼康的 ArF 光刻机售价仅仅不到 ASML 的一半也无补于事。Intel、台积电、三星用来加工 14/16nm 芯片的光刻机都是买自 ASML，格罗方德、联电以及中芯国际等晶圆厂的光刻机主要也是来自 ASML。更关键的是，最先进的 EUV 光刻机全球仅仅 ASML 能够生产，ASML 在今年第三季度和第四季度出售的两台 EUV 光刻机售价都超过 1 亿美元，落后 EUV 一代的 ArF 光刻机平均售价也在 4000 万至 5000 万欧元左右，从高企的报价和 EUV 光刻机全球仅此一家出售可以看出，光刻机的技术门槛极高，是人类智慧集大成的产物。相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸，处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中，性能最好的是能用来加工 90nm 芯片的光刻机，技术差距说是鸿沟都不为过。正是因此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次从荷兰空运至厦门机场的 ASML 光刻机，就是用于芯片生产制造的高端光刻机，由于是厦门的一家公司申报进口的，笔者猜测，这台设备很有可能是厦门当地政府与台湾联华电子合资的晶圆厂从荷兰 ASML 采购的。不过，由于西方瓦森纳协议的限制，中国只能买到 ASML 的中低产品，这一点从厦门当地企业进口的光刻机报价仅 1 亿人民币就可以看出来了。
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第一章 引言
NANDDRAMSoCASSP
第二章．当前光刻技术的主要研究领域及进展
1999 ,0.18
第三章．光刻的原理和分类
光刻的原理：
Photomasking, masking, photolithography,
microlithographyparts
光刻的分类：
2480.18ArF(193)&
FPA-1000ASI
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