哪位能测,抛光后的晶体表面粗糙度数值

薄壁套工件应划分粗、精磨、使粗磨时所产生的()能在精磨时得以消除。 清明节为缅怀先人,要求插制丧礼花篮,选出错误的选项() ["A、以黄白紫蓝等色彩为主色调","B、表现庄严肃穆的哀悼之情","C、选用黄白色菊花、紫色矢车菊等为主花材","D、选用红色花材为主花材,表现热烈欢快的气氛"] 蜗杆磨削中的干涉效应,是由于在螺纹磨床上使用()砂轮加工而引起的。 磨削高钒高速钢、又硬又粘的高级耐热合金时,采用()磨具较好。 外圆磨削工件端面时,端面垂直度超差的原因是砂轮轴线与()。 抛光后,工件的表面粗糙度值可达Ra()um以下。

}

我是机械背景的,普通机加工精铣都可以达到Ra<3.2um的表面粗糙度,更不用说经过磨削之后的表面了

据我查看小木虫其它帖子,硅片抛光面如果是你说的0.4nm以下倒是比较可信的;粗面(未抛光侧 ...

国产硅片,抛光面的Ra是不会小于0.4nm的,没这个水平,只有极少数实验室,有专门的抛光机,可以抛到这个水平,现成买来的国产硅片肯定到不了这个水平,1nm的水平吧。

粗面,也就是未抛光面,差别很大。有的粗面,比磨砂还粗,有的只是亚光。亚光的面,估计在1um左右,磨砂的要稍微再粗一些。硅片所谓的粗面,就是减薄后的面,没有做抛光的,1~10um是一个很正常的值。

如果是像你说的粗糙度10nm,很多光学部件也就这水平了,相当的镜面了,你机械背景如果这都不知道…………

不信咱们可以赌,你出片子,我给你测AFM,如果指标落到我说的范围里,就当给你免费做,否则你就把测试费出了

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