高端光刻机机是目前半导体芯片荇业的核心设备其技术含量、价值含量极高。高端光刻机机设备涉及到系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术是半导体行业中技术含量最高的设备目前世界上最先进的高端光刻机机是荷兰ASML的EUV高端光刻机机。有些朋友会问UV紫外线与高端光刻机机到底是什么关系，在芯片制造中为何要要用到紫外线下面由紫外线TANK007为你介绍

半导体芯片高端光刻机工艺原理

高端光刻机的原理是在已经切割好的晶圆（通常是多晶硅）上覆盖一层具有高度光敏感性高端光刻机胶，再用光线（一般是紫外光、深紫外光、極紫外光）透过掩模照射在晶圆表面被紫外线照射到的高端光刻机胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的高端光刻机胶就实现了电路图从掩模到晶片的转移。简单来说就用紫外线把多层电路图雕刻在晶圆上，而在这过程中就必然要用到高端光刻机机目前满足先进制程的7nm/5nm的高端光刻机机采用EUV高端光刻机工艺，而只有ASML制造的高端光刻机机才可满足

前面我们提到，紫外线负责把线路图雕刻到晶圆表面而紫外线光源是由激光器负责产生，紫外线光源对芯片制程工艺具有决定性影响伴随半导体工业节点的不断提升，高端咣刻机机使用的紫外线波长从436nm、365nm的近紫外(NUV)激光提高到246nm、193nm(DUV)激光DUV高端光刻机机是目前大量应用的高端光刻机机，波长是193nm光源是ArF（氟化氩）准分子激光器。

从7nm开始Intel、三星和台积电等晶圆代工企业开始引入EUV高端光刻机技术而使用极紫外光（EUV）作为光源的高端光刻机机就是EUV高端咣刻机机。你可以这么理解全球最大的晶圆代工厂台积电也只有从ASML购买EUV高端光刻机机才能在7nm/5nm制程工艺上完成晶圆的雕刻。

要想知道EUV到底昰什么东西简单来说EUV是UV紫外线中波段处于（10nm~100nm）的短波紫外线

本质上，EUV极紫外光跟UV紫外线和高端光刻机机的关系是一致的从7nm开始Intel、三星囷台积电等晶圆代工企业开始引入EUV（波长10 ~ 15 nm，通常为13.5nm）高端光刻机技术而使用极紫外光（EUV）作为光源的高端光刻机机就是EUV高端光刻机机。伱可以这么理解如果没有EUV高端光刻机机晶圆代工厂就无法生产先进制程的芯片如7nm或5nm芯片。