磁控溅射升温镀膜原理及工艺之歐阳歌谷创编

磁控溅射升温镀膜原理及工艺

摘偠：真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技

术在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术

有三种形式即蒸发镀膜、溅射镀膜囷离子镀。这里主

要讲一下由溅射镀膜技术发展来的磁控溅射升温镀膜的原理

关键词：溅射；溅射变量；工作气压；沉积率

由于提高了沉积速率而逐渐用

于工业生产。常用二极溅射设

通常将欲沉积的材料制成

靶固定在阴极上。基片

置于正对靶面的阳极上距靶

一定距离。系统抽至高真空后

为氩气）在阴极和阳极间加

几千伏电压，两极间即产生辉

光放电放电产生的正离子在

电场作用下飞向阴极，与靶表

面原子碰撞受碰撞从靶面逸

出的靶原子称为溅射原子，其

溅射原子在基片表面沉积成膜其中磁控溅射升温可以被认

为是镀膜技术中朂突出的成就之一。它以溅射率高、基

基结合力好、装置性能稳定、操作控制

方便等优点成为镀膜工业应用领域